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分享低温等离子设备常用的两种清洗方法!

发布时间:2021-09-13      点击次数:10
  低温等离子设备也是属于干洗法,与传统湿法清机相比,等离子清洗机具有工艺简单、操作简单、可控性高、精度高,可以将表面一次清洗干净不会有残留剩余,反观湿法清洗一次清洗不干净还会有残留物,如果使用大量的溶剂,对环境和人体都会有害。
 
  低温等离子设备在使用过程中,有两种清洗过程:化学反应和物理反应。以化学反应为主的等离子清洗机具有:性能好、清洗快、去除氧化物、有机物及物体表面活化效果好,且使用过程中不会产生对人体和环境有害的气体来,是一种真正环保的设备。
 

 

  下面将分享清洗方法有哪些:
  1、物理作用:具有表面刻蚀作用:
  等离子气体中是多种活粒子组合成有:自由基、激发态分子、离子,它们作用就是清除物体表面的杂质和污染物,且会产生刻蚀作用,将样品表面变粗糙,形成许多微细坑洼,增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。
  2、交联作用:激活键能:
  等离子体中的粒子能量在0~20eV,而聚合物中大部分的键能在0~10eV,因此等离子体作用到固体表面后,可以将固体表面的原有的化学键产生断裂,等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构,大大地激活了表面活性。

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