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浅析等离子清洗机去除金属氧化物原理

发布时间:2021-07-27      点击次数:209

   等离子清洗机的清洗原理:等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四中状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。

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等离子清洗机去除金属氧化物


化学清洗:表面反应以化学反应为主的等离子体清洗,又称PE。

例:O2+e-→ 2O※ +e-     O※+有机物→CO2+H2O

从反应式可见,氧等离子体通过化学反应可使非挥发性有机物变成易挥发的H2O和CO2。

例:H2+e-→2H※+e-      H※+非挥发性金属氧化物→金属+H2O

从反应式可见,氢等离子体通过化学反应可以去除金属表面氧化层,清洁金属表面。

物理清洗:表面反应以物理反应为主的等离子体清洗,也叫溅射腐蚀(SPE)。

例:Ar+e-→Ar++2e-       Ar++沾污→挥发性沾污

Ar+在自偏压或外加偏压作用下被加速产生动能,然后轰击被清洗工件表面,一般用于去除氧化物、环氧树脂溢出或是微颗粒污染物,同时进行表面能活化。

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   等离子设备主要适用于各种材料的表面改性处理:表面清洗、表面活化、表面刻蚀、表面接枝、表面沉积、表面聚合以及等离子体辅助化学气相沉积:


  表面改性:


  纸张粘合,塑料粘接、金属锡焊、电镀前的表面处理


  表面活化:


  生物材料的表面修饰,印刷涂布或粘接前的表面处理,如纺织品的表面处理


  表面刻蚀:【真空等离子设备】


  硅的微细加工,玻璃等太阳能领域的表面刻蚀处理,医疗器皿表面刻蚀处理


  表面接枝:


  材料表面特定基团的产生和表面活化的固定


  表面沉积:


  疏水性或亲水性层的等离子体聚合沉积


  广泛应用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温灭菌及污染治理等多种领域,是企业、科研院所进行等离子体表面处理的理想设备。




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