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真空等离子清洗设备去除物体表面污渍目的
点击次数:704 发布时间:2017-07-31
   真空等离子清洗设备去除物体表面污渍目的
  
  真空等离子清洗设备系统主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。真空等离子清洗设备产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场,用真空泵实现一定的真空度,随着气体愈来愈稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长,受电场作用,它们发生碰撞而形成等离子体,这些离子的活性很高,其能量足以破坏几乎所有的化学键,在任何暴露的表面引起反应,不同气体的等离子体具有不同的性能,如氧气的等离子体具有很高的氧化性,能氧化光刻胶反应生成气体,从而达到清洗的效果;腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性,这样就能满足刻蚀的需要。利用等离子处理时会发出辉光,故称之为辉光放电处理
  
  A,清洗真空等离子清洗设备样品的表面,对样品表面进行表面活化处理,通过添加特殊气体,和处理工艺,可以使样品达到疏水的效果
  
  B,样品处理,进行键合实验
  
  C.双气路可以分别控制
  
  1.真空压力传感器使得机器在智能控制下有了可靠的依据
  
  2.采用舱体、管路、阀体全部为不锈钢材料,称之为全防腐型
  
  3.该仪器实现了手动,自动两种模式任意切换的工作方式
  
  4.该仪器实现了程序化设计,预先编辑好程序,仪器可以自动完成实验
  
  5.无需任何耗材,使用成本低
  
  6.无需特殊进行维护,在日常使用中保持仪器清洁即可

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