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真空等离子清洗设备工艺处理适用于哪些工作模式
点击次数:665 发布时间:2017-07-14
   真空等离子清洗设备工艺处理适用于哪些工作模式
  
  真空等离子清洗设备主要的功能为:
  
  A,清洗样品的表面,对样品表面进行表面活化处理,增加样品的亲水性。
  
  B,清洗样品的表面,对样品表面进行表面活化处理,通过添加特殊气体,和处理工艺,可以使样品达到疏水的效果
  
  C,样品处理,进行键合实验
  
  D.双气路可以分别控制
  
  真空等离子清洗设备功能:
  
  对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物(如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等)进行超清洗。
  
  改变某些材料表面的性能。
  
  使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。
  
  清除金属材料表面的氧化层。
  
  对被清洗物进行消毒、杀菌。
  
  真空等离子清洗设备优点:
  
  具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。
  
  对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。
  
  完全彻底地清除样品表面的有机污染物。
  
  定时处理、快速处理、清洗效率高。
  
  绿色环保、不使用化学溶剂、对样品和环境无二次污染。
  
  在常温条件下进行超清洗,对样品非破坏性处理。
  
  真空等离子清洗设备应用领域:
  
  光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。
  
  清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
  
  移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质,去除金属材料表面的氧化物。
  
  清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。
  
  清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。
  
  高分子材料表面的修饰。
  
  封装领域中的清洗和改性,增强其粘附性,适用于直接封装及粘和。
  
  改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
  
  涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,使其活化,增强表面粘附性、浸润性、相容性,显著提高涂覆镀膜质量。
  
  牙科领域中对钛制牙移植物和硅酮压模材料表面的预处理,增强其浸润性和相容性。
  
  医用领域中修复学上移植物和生物材料表面的预处理,增强其浸润性、粘附性和相容性。
  
  对医疗器械的消毒和杀菌。

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